温室の基質温度を制御する方法

基板温度を制御する方法

容器の培養であろうとバッグ文化であろうと、根系が拡張するスペースは制限されており、その範囲は土壌栽培の範囲よりもはるかに小さいです。これの利点は、基板を節約し、根圏環境の制御を促進することです。欠点は、基板が小さく、緩衝能力が限られており、極端な温度を制御していることです。したがって、極端な温度条件下では、基質温度制御は、基質栽培の収率を決定する上で重要なリンクです。
寒すぎたり暑すぎたりする極端な温度は、基質栽培の植物の根に直接損傷を引き起こし、根源が不均一になります。
周囲温度の影響を受け、根の成長は陰と陽の不均一な分布を引き起こします。基質の温度は制御されるため、根系はポットに比較的均等に分布しています。
植物には、一定の温度耐性があります。ただし、温度が低すぎたり、高すぎたり、植物の根の成長に影響を与えます。 5-6連続した時間で基質温度が40度に達すると、成長中止、ホルモンシグナルの障害、栄養吸収の阻害、疾患の発生率の増加など、間接的な損傷が発生します。
極端な温度への長期的な曝露は最終的に修復を超えて根系を損傷し、植物材料の健康と外観をもたらすため、直接的な損傷はより深刻な問題です。直接的な損傷により、植物は間接的な損傷に関連する症状を発症し、特に根でしおれ始める可能性があります。
基板成長バレルの極端な温度は、長期間持続した場合、植物の健康と品質に壊滅的な影響を与える可能性があります。惑星が温まるにつれて、世界中で植物の熱ストレスと作物の損傷が増えています。温度損傷は、穏やかな気候のある地域でも問題です。ますます多くの人々が、容器内の基板の極端な温度に対処する方法に注意を払っています。

極端な基質温度を軽減するには多くの方法があります。生産では、シェーディングネットを追加して冷却するか、地下の半埋めた基板バレルを使用して、土壌の天然断熱能力を活用して冷却することができます。
灌漑は、植物と基板を冷却する効果をもたらす可能性があります。循環灌漑は、温度を調節する効果的な手段であることが証明されています。もちろん、午後の灌漑は熱からの限られた緩和のみを提供し、極端な場合はわずか数度の温度を下げることができます。
パイプが露出している場合、流れる水も非常に高温で、ほとんどの冷却効果が無効になります。ただし、その日の最も暑い部分での散水は、最良の管理慣行に反しています。温度を制御するために散水すると、作物の成長に悪影響を与える可能性があるためです。

多くの場所での夏の温度では、38度を超える基質温度をしばしば検出でき、極端な年では、基質温度は66度に達することさえあります！したがって、バケツの栽培を互いに近くに保持するか、極端な基質温度を緩和するために、黒い成長バケツの代わりに、明るく明るい色の容器を使用しようとします。
黒い容器のマトリックスは、1日あたり約9時間で臨界温度38度を超え、白い容器は2時間未満で38度を超えました。したがって、高温は避けられないかもしれませんが、期間を短縮する努力の価値があります
ただし、白い容器を使用する場合は注意してください。内部には、光の浸透が根ゾーンへの光の浸透を制限し、根の成長を妨げ、藻類の成長を引き起こすために、黒いプラスチックで裏打ちする必要があります。